Vista-200纳米红外成像系统介绍：

傅立叶变化红外光谱（Fourier Transform infrared spectroscopy, FTIR）广泛应用于各种化学分析，尤其是聚合物和有机化合物分析，为现代化学提供了重要的分析手段。随着半导体制程特征线宽越来越小，对缺陷检测的要求也越来越高，纳米红外成像系统是一种可以直接检测纳米级缺陷成分的检测工具，特别适合用检测晶圆及DUV/EUV光罩污染物。Vista 200 可以配置真空吸盘或专用EUV掩模版支架，该仪器非常适合4英寸、6英寸或8英寸晶圆。

功能强大但无损

PiFM以真正的非接触模式运行。该仪器不会接触您的原始样品，因此样品可以保持清洁，针尖也是如此。

简化流程

我们的数据分析软件使您的团队能够快速从测量结果到可展示的结果。与我们的数据采集软件紧密集成，使您能够实时获得所需的答案。我们的脚本API允许自定义配方，并且文件是开放的，因此很容易与第三方软件集成。

卓越的AFM性能

凭借120 μm的XY扫描器、12 μm Z向扫描范围和集成的隔振台，我们的AFM性能优异。高带宽双Z反馈系统允许对IR PiFM进行True非接触式扫描。

专为工业领域打造

300 mm宽的样品可直接通过进样舱门进样，可大限度地减少热漂移导致的干扰，同时大限度地提高通量。借助我们的前向移动载物台和用户友好的头部安装，探针和样品都可以轻松更换，而无需打开整个外壳，大限度地提高效率。

规格

样品台行程：200 mm × 200 mm（最大可放300mm晶圆）

扫描范围：120 µm × 120 µm

双Z 反馈：12 µm Z向扫描器同时附带600 nm快速Z扫描可满足高通量和Z向大量程扫描需求

成像模式：Non-contact AFM, PiFM, KPFM, cAFM, nano DMA, FvD (force vs distance)

晶圆缺陷与污染物

光诱导力显微镜可以对纳米级缺陷的尺寸和化学成分进行测量与分类。示例形貌图显示缺陷的大小约为100 nm，厚度约为3 nm。缺陷上的PiF-IR光谱与Teflon的FTIR光谱很好地匹配，使我们能够将该缺陷识别为Teflon。

Vista 200 Platform:

Visible ~ IR chemical imaging and spectroscopy, E-field imaging, photovoltage/current imaging with sub-10 nm spatial resolution.

Also being combined with Confocal Raman, PL imaging and other kinds of far field spectroscopy and optical microscopy.